檢漏儀高壓強下檢漏：檢漏口壓強可高達數(shù)百帕左右，對檢測大系統(tǒng)和有大漏的工件很有益。筆者根據(jù)實測經(jīng)驗，兩次噴氦的較小間隔時間控制在30s左右，即如果次噴氦后30s內(nèi)檢漏儀還沒有反應,則可進行第二次噴氦。質(zhì)譜室里的燈絲發(fā)射出來的電子，在室內(nèi)來回地振蕩，并與室內(nèi)氣體和經(jīng)漏孔進入室內(nèi)的氦氣相互碰撞使其電離成正離子，這些氦離子在加速電場作用下進入磁場，由于洛倫茲力作用產(chǎn)生偏轉，形成圓弧形軌道，改變加速電壓可使不同質(zhì)量的離子通過磁場和接收縫到達接收極而被檢測。
氦質(zhì)譜檢漏技術是真空檢漏領域里不可缺少的一種技術，由于檢漏效率，簡便易操作，儀器反應靈敏，精度高，不易受其他氣體的干擾，在電阻爐檢漏中得到了廣泛應用。將這種氣體噴到接有氣體分析儀（調(diào)整到僅對氦氣反應的工作狀態(tài)）的被檢容器上，若容器有漏孔，則分析儀即有所反應，從而可知漏孔所在及漏氣量大小。氦質(zhì)譜檢漏儀為氣體工業(yè)名詞術語，用氦氣或者氫氣作示漏氣體，以氣體分析儀檢測氦氣而進行檢漏的質(zhì)譜儀。
一般檢漏都采用氦氣(He)作為示漏氣體，但也有用氫氣(H)作為示漏氣體的，考慮到它的化學性質(zhì)及危險性，在應用中較少使用，所以實際大部分檢漏使用的都是氦氣。主要配置：檢漏儀分子泵。機械泵或者干泵。定制檢漏儀電磁閥。內(nèi)置標準漏口。 放大器。質(zhì)譜模塊。筆者根據(jù)實測經(jīng)驗，兩次噴氦的較小間隔時間控制在30s左右，即如果次噴氦后30s內(nèi)檢漏儀還沒有反應,則可進行第二次噴氦。
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